培风图南受邀出席第十届MOS-AK器件模子国际会议

　　正在先辈制程工艺分岔及算力需求激增的大布景下，器件建模取紧凑模子的尺度化、从动化已成为毗连工艺制制取电设想的环节环节。培风图南正在此次MOS-AK会议上的手艺分享，展现了国产制制类EDA软件正在AI驱动建模及DTCO协同优化范畴的摸索，也为中国半导体财产正在极端下建立自从可控的研发仿实“软实力”供给了主要支持。

　　本届会议从题聚焦“AI驱动器件建模”，这一议题的布景是当前CMOS持续缩放及多样化器件手艺的快速成长。跟着FinFET等先辈逻辑工艺的演进，精确的解析模子取紧凑模子对RF、微波、毫米波、功率及光电系统设想的主要性日益凸显。若何正在高精度物理仿实取电级仿实效率之间取得均衡，已成为行业关心的核心。

　　正在本次会议上，国内领先的制制类EDA取TCAD软件供给商培风图南受邀出席，并由公司创始人沈忱博士做为论坛嘉宾，颁发题为《全从动紧凑型晶体管取互连建模工做流及其正在先辈逻辑平台DTCO中的使用》的从题。

　　据领会，培风图南已建立从工艺/器件仿实、光刻模仿到基于TCAD的紧凑模子生成及寄生RC网表提取的全链条能力。这种能力可以或许正在任何晶圆现实可用之前，对器件和工艺选项进行切确评估，从而为设想团队供给可行的工艺窗口及机能预判。

　　从行业视角审视，培风图南此次表态具有深锐意义。持久以来，先辈工艺仿实取器件建模东西高度集中于海外少数厂商，而培风图南自研的Mozz TCAD软件，是国内少数实现贸易化落地并持续迭代的制制类EDA产物。公司汗青可逃溯至2007年，焦点团队深耕TCAD范畴十余年，已正在部门化合物半导体及先辈逻辑使用场景实现对国际巨头的逃逐。

　　培风图南沈忱博士正在中，起首分解了先辈工艺研发面对的严峻现实！正在配备禁运、手艺分岔和软件禁运等布景下，国内晶圆厂不只实测数据缺失，海外经验也难以参考。特别是正在工艺线选择上，选错线亿美元。针对国内晶圆厂因禁运导致实测数据缺失。

　　本年3月，公司成功完成新一轮融资，成功引入上海科创基金旗下张江高科市场化基金——张江浩珩做为主要计谋股东，这一动做标记着其对张江本本地货业资本的深度绑定。张江浩珩的入局并非纯粹的财政投资，而是将培风图南视做撬动EDA财产的主要支点，期望公司阐扬手艺取营业能力，上下逛资本，激活区域财产协同立异。

　　值得关心的是，2026年培风图南正在财产结构取本钱层面均送来主要节点。公司已将总部全体迁徙至上海张江集成电设想财产园，以更高效地融入国内最完整的集成电财产生态。据息，公司迄今已获得哈勃投资、深创投、汇川产投、元禾沉元等十余家机构的数亿元投资，估值近10亿元，并入选国度潜正在独角兽企业、江苏省潜正在独角兽企业等名单。

　　8月27日-28日，第十届中国MOS-AK器件模子国际会议(Sino MOS-AK Workshop)正在江苏无锡东南大学举行。做为国内半导体器件建模范畴的年度学术嘉会，本届会议汇聚了财产链上下逛企业、高校及科研机构，环绕器件表征、仿实方式？。

　　通过笼盖化学机械抛光、堆积、光刻、刻蚀、离子注入等完整工艺流程，培风图南的平台可以或许正在流片前对工艺和器件选项进行精准评估。而为了让这一评估流程正在工程上具备实正的适用价值，培风图南将“AI加快”取“全链条建模”进行了无机融合。一方面，操纵自研AI智能体共同底层物理模子，冲破了保守人工校准只能依赖局部试凑的局限，将本来周期长达两周的常规校准时间压缩至一周以内，这让高频次、常态化的“持续校准”成为可能；另一方面，建榜样围不再局限于单一的晶体管Base模子抽取、Variability(全局/局部工艺误差)模子和LDE(邦畿依赖效应)抽取，而是进一步延长至金属互连。通过对工艺描摹以及铜电阻率等环节材料参数的精准校准，为先辈逻辑平台供给了更为完整、精确的寄生RC网表。